스캐너가 끝난다. 웨이퍼가 기다린다. 노광에서 생긴 산은 포스트익스포저 베이크(PEB)가 프로파일을 잠글 때까지 레지스트 필름 안에서 움직인다. 그 대기 구간—post-exposure delay, PED—은 공정 시간이다. 트랙이나 AMHS가 바빠 FOUP이 노광 장비와 PEB 플레이트 사이에 쌓이면, 누가 CD를 expose-to-bake 분에 대해 그리기 전까지 임계치수가 “스캐너 드리프트”처럼 걷는다.
PEB 핫플레이트 균일도는 베이크가 시작된 뒤 웨이퍼 면내 온도 범위를 소유한다. 에치와 필름 사이 fab Q-time은 플라즈마 후 표면 화학을 소유한다. 이 페이지는 노광 → PEB 큐다. 잠상이 존재하는 순간 시작해 플레이트가 웨이퍼를 베이크 온도로 유지할 때 끝나는 시계.
많은 CA 레지스트에서 PED 민감도는 공정 창이 노광과 PEB 사이 최대—때로는 최소—지연을 적을 만큼 현실적이다. 주변 산 퀀치, 습도, 베이의 공기 중 염기 오염은 레시피 수정 없이 그 창을 줄일 수 있다. 로드포트에서 40분 기다린 뒤 “같은 도우즈를 돌린” 로트는 5분 만에 움직인 로트와 같은 공정을 돌리지 않았다.
중요한 타임스탬프는 노광 완료(또는 로트 마지막 다이 노광), 플레이트상 PEB 시작, 중간 스토커·로드포트 체류다. MES “로트 이동”만으로는 너무 거칠다. 금지(inhibit)가 WIP 보드에 노란 배지만 칠하면 플래너는 핫 로트에 면제한다. 통하는 통제는 거부다. PEB 모듈이나 트랙 호스트는 PED 한도를 넘긴 로트를, 리소 공정이 소유한 문서화된 복구—재노광 경로, 스트립·재코트, 또는 스크랩 disposition—없이 받지 않는다. 디스패치 가동률에 맡기지 않는다.
CD 서명이 긴 포스트익스포저 체류 로트에 몰리고 포커스·도우즈 이력이 조용하면, 또 다른 에너지 사다리에 돈을 쓰기 전에 PED 계보로 홀드하라. 트랙은 잠상이 스캐너가 찍었다고 생각한 모델과 아직 맞는지 소유한다.