본문으로 건너뛰기
전체 분석

섹터 · 반도체 · 2026년 7월 11일

CFET 적층이 나노시트 GAA 이후 밀도 베팅이 된다

상보 FET 수직 적층은 로직 스케일 지속을 겨냥합니다. GAA 위험 램프·하이브리드 본딩 HBM·첨단 패키징 경쟁과 구분됩니다.

CFET 적층이 나노시트 GAA 이후 밀도 베팅이 된다

GAA 나노시트는 위험 양산에 들어가고, 하이브리드 본딩·HBM이 패키징 서사를 지배합니다. 다음 트랜지스터 밀도 이야기는 상보 FET(CFET)입니다. 평면·FinFET 레버가 소진된 뒤 풋프린트를 되찾기 위한 n·p 채널의 수직 적층.

파운드리와 장비사는 CFET 공정 모듈—선택 에피·중간 유전체 격리·타이트 컨택 오버레이—을 슬라이드가 아니라 후반 로직 노드에 맞춥니다.

산업적 요점은 적층 로직의 CapEx·수율이지 또 다른 패키징 약어가 아닙니다.

CFET가 바꾸는 것

  • 풋프린트 회복 — GAA만으로 정체되는 곳의 수직 n/p 적층.
  • 장비 로드맵 — 적층 상보 채널용 에피·에치·계측.
  • 디자인 룰 — CFET가 페이퍼 노드 이상이 되는 PDK 시점.

여전히 실패하는 것

CFET를 3D NAND형 적층이나 칩렛 패키징과 혼동. 컨택 저항·열 경로가 신뢰되기 전 양산 일정에 베팅. HBM 하이브리드 본딩·단독 백사이드 파워·유일한 병목으로서의 High-NA EUV 이야기가 아닙니다.

앞으로 볼 포인트

  1. 어떤 파운드리가 단면만이 아니라 CFET 파일럿 수율 창을 내는지.
  2. 적층 상보 기생용 EDA 준비.
  3. GAA 학습곡선이 CapEx를 삼키며 CFET가 미끄러지는지.

GAA는 지금의 등반입니다. CFET는 능선 뒤의 다음 벽입니다.

같은 섹터의 다른 분석