현장 노트 — 에치
습식 세정 후 첫 생산 카세트에서 CD가 4nm 걸었다. 챔버 매칭이 RF 시간을 탓했다. 툴이 시즈닝을 건너뛰었다. 벽이 잘못된 의미로 여전히 “깨끗”했다.
습식 PM 후 챔버 표면은 레시피가 자격된 정상 상태 화학이 아니다. 율·선택비를 안정시키는 폴리머·부산물 막이 시즈닝 웨이퍼(또는 정의된 플라즈마 레시피)에서 다시 쌓인다. 택트 절약으로 건너뛰면 첫 제품 로트가 고객 실리콘으로 시즈닝 로트가 된다.
로드락 leak-up·ESC 헬륨 이야기에 인접하지만 반복이 아니다. 환자는 오픈 챔버 작업 후 벽 상태다.
제품 전에 돌릴 것
기록: 습식 세정 티켓, 시즈닝 레시피 ID, 웨이퍼 수, 1카세트 vs 5카세트 에치율 모니터, 시즈닝 면제자. 3카세트에서 사라지는 퍼스트 웨이퍼 절벽은 새 가스병이 아니라 벽 기억이다.
규칙
완료된 시즈닝—또는 첫 N장 계측 홀드가 있는 서명 위험 수락—없이 습식 PM 후 제품 없음. “베이스 압력 양호”는 필요하지만 충분하지 않다.