Faraday cup’lar ve doz SPC kaç iyon geldiğini cevaplar. Bu iyonların nerede durduğunu tam cevaplamaz. Tek kristal silikonda majör bir eksen veya düzleme yakın giren iyonlar channeling yapabilir: elektronik frenleme daha uzun yol boyunca baskındır, tepe daha derindedir ve sheet-resistance veya Therma-Wave haritaları, gerçek suçlu açı iken “non-uniformity” gibi görünen desenler çıkarır.
Birçok (100) well ve source/drain reçetesinde endüstri pratiği hâlâ sıfır olmayan bir tilt’e—sıkça 7° mertebesinde—ve en kötü eksenel ve düzlemsel kanallardan kaçınmak için seçilmiş bir twist’e (çoğu zaman yaklaşık 20°–30°) yaslanır. Quad veya çoklu döndürmeli implantlar photoresist topografisinden gölgelemeyi de azaltır. Yüksek enerjili iş daha affetmez: MeV sınıfı implantlarda yayımlanmış SIMS çalışmaları, bir derecenin çok altındaki açı hatalarının ve twist seçiminin channeling kuyruğuna hükmedebildiğini gösterir; bu yüzden demet-açısı monitörleri ve wafer kesim-offset düzeltmeleri doz reçete ekranı kadar önemlidir.
Doz kontrol brief’leri beam current ve cup metrolojisini sahiplenir. Photoresist yaş notları yukarı akış coat pencerelerini. Bu not channeling’e karşı tilt/twist disiplinidir.
Tilt ve twist’i kabile “hep yedi ve yirmi iki kullanırız” diye değil, kontrollü reçete parametrelerine yazın. Platen servisi, robot teach veya endstation değişiminden sonra üretimi serbest bırakmadan önce açıyı aracın kalibrasyon yöntemine göre yeniden doğrulayın. Haritalar sistematik channeling imzası gösterdiğinde kaynağı suçlamadan önce kristal kesim offset’ini, demet steering’ini ve programlanmış twist’i kontrol edin. Screen oksitler ve pre-amorphizing implantlar meşru proses seçimleridir; çıplak kristal gören adımlarda açı kontrolünü yok sayma ruhsatı değildir.
Açık kanallı yeşil doz raporu, iyi bir totalizer giymiş derin bir junction’dır. Açıları coulomb’lar kadar ciddi kapatın.