İçeriğe geç
Tüm analizler

Sektör · Yarı iletken · 29 Tem 2026

DOE raporu ET-09: baskıyı suçlayan split-lot, başka bir şeyi kanıtladı

Faktör tabloları, wafer haritaları ve doğrulama lotları proses değişikliğinin nedensel olup olmadığına karar verir—yarı iletken deney raporu; iyon implant doz zincirleri, ıslak banyo defterleri veya High-NA dikiş programları değil.

DOE raporu ET-09: baskıyı suçlayan split-lot, başka bir şeyi kanıtladı

Rapor ID: ET-09
Tezgah: Etch odası ailesi C (anonim)
Belirti: “Baskı ince ayarı” sonrası CD ortalama kayması + kenar ağırlıklı harita
Biçim: Tasarlanmış deney yazımı. Beyin fırtınası slaytı değil.


1. Amaç

Oda basınç setpoint’i (±%8) CD kaymasını açıklıyor mu, yoksa RF saatleri / season kit / ESC sıcaklığı mı baskın?


2. Faktörler (kodlu)

| Faktör | − | + | Notlar | | --- | --- | --- | --- | | A Baskı | −%8 | +%8 | Tartışmalı düğme | | B RF saat kovası | Düşük | Yüksek | Aynı oda | | C ESC sıcaklığı | Nom | +3°C | Sık göz ardı |

Kısa döngü wafer’larda tam faktöriyel 2³; ardından ürün benzeri yığın üzerinde doğrulama.


3. Sonuçlar (sıkıştırılmış)

Ana etki A (baskı) küçük.
Ana etki B (RF saatleri) büyük.
Kenar die’lerde B×C etkileşimi görünür.

Baskı anlatısı çöktü. Sarf/seasoning anlatısı tuttu.

DOE hücreleri arasında wafer haritası karşılaştırması

Baskı hakkında yüksek sesli görüş ana etki değildir.


4. Doğrulama lotu

Nominal baskıda yüksek RF-saatli oda kusur imzasını yeniden üretti.
+%8 baskıda düşük RF-saatli oda üretmedi.

Karar: baskı kabile düzeltmelerini dondur; RF-saat kapısına göre kit/season playbook’unu tetikle.


5. Neredeyse yanlış yaptığımız

  • Tüm odalarda baskıyı “altın ile eşleştirmek” için değiştirmek.
  • Split lot yok.
  • Kodlu faktör yok.
  • MES notu: “optimize edildi.”

Bu yol bir sonraki PM’de birbirine karşı savaşan kabile reçeteleri uydurur.

Etch bölmesinde basılı ve bantlanmış DOE faktör tablosu

Kodlu değilse deney değildir—ruh hâlidir.


6. Faaliyetler

| Faaliyet | Sahip | | --- | --- | | RF-saat eşiği → otomatik uyarı | Ekipman | | Run card’larda ESC sıcaklık logu zorunlu | Proses | | Baskı değişiklikleri ET tarzı DOE ID gerektirir | Proses + Verim | | ET-09’u haritalarla QMS’de kapat | Verim |


Komşu sınırlar

İyon implant doz yürüyüşleri Faraday zincirlerine sahiptir. Islak banyo defterleri titrasyon ömrüne sahiptir. High-NA dikiş lito dikişlerine sahiptir. AMC avları havadaki kimyaya sahiptir. ET-09 etch söylentisinde nedensel dürüstlüğe sahiptir. Tek harita çirkin diye tüm odaları yeniden ayarlama.


Onay

Proses ____ Ekipman ____ Verim ____

Üç imza olmadan ET-09 bir PDF’dir, kontrol değil.

Bu sektörden diğerleri